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HS2048高分辨微型光譜儀

簡要描述:HS2048高分辨微型光譜儀是一款結構小巧的微型光纖光譜儀,光譜范圍可靈活配置,核心優勢突出 —— 高分辨率達~0.07nm,雜散光低于 0.1%,波長溫漂僅~0.1pixel/℃。適配激光測量、等離子體發射光譜測量、顏色測量、吸光度測量和拉曼測量等多個工業現場場景,是高性價比的工業級光纖光譜儀。

  • 產品品牌:其他品牌
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-12-05
  • 訪  問  量:20

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域綜合

HS2048高分辨微型光譜儀

HS2048高分辨微型光譜儀

HS2048高分辨微型光譜儀 

HS2048 是一款結構小巧的微型光纖光譜儀,光譜范圍可靈活配置,核心優勢突出 —— 高分辨率達~0.07nm,雜散光低于 0.1%,波長溫漂僅~0.1pixel/。適配激光測量、等離子體發射光譜測量、顏色測量、吸光度測量和拉曼測量等多個工業現場場景,是高性價比的工業級光纖光譜儀。

 

核心產品規格

關鍵配置

l    低雜散光設計:采用優質光學元器件、特殊消光工藝及優化光路,雜散光低至 0.1% 以下,提升光譜純度與檢測精度;

l    超高分辨率:搭載傳統長焦 CT 光路,配合精密光學設計與高性能光柵,分辨率可達 0.07nm;

l    低溫漂穩定:波長溫漂~0.1pixel/,減少環境溫度對檢測結果的影響;

l    紫外響應優異:配備紫外高靈敏檢測器,輸出低噪聲、高信噪比的準確光譜信號,適配高精度分析;

l    光纖適配性強:可搭配多芯密排集束光纖,光纖插拔強度一致性7%;

l    低噪表現:CCD 量化背景噪聲30RMS(最短積分時間);

l    接口完備:配置 USB2.0、RS232 通訊接口及 24PIN 交互接口,內置專有 DAC 和 ADC,可實現配套光源的使能、強度控制及功率反饋;

l    采集模式多樣:支持單次、連續、軟件觸發、同步外觸發、異步復位外觸發。

詳細參數表

參數類別

具體指標

產品型號

HS2048

光纖接口

Key-SMA905

像元通道數

2048

雜散光

<0.1%

波長溫漂

~0.1pixel/℃

光纖插拔一致性

≤7%

AD 采樣

16 bit

數據接口

USB2.0RS232

擴展功能接口

24PIN

采集模式

單次、連續、軟件觸發、同步外觸發、異步復位外觸發

檢測器積分時間

60us-65s

外觸發時延準確性

10 ns

CCD 讀出噪聲(最小積分時間,均方根)

≤30 RMS

CCD 動態范圍(最小積分時間,(飽和值 - 暗噪基線)/CCD 讀出噪聲標準差)

3000:1

信噪比

380:1

響應線性度(校準前)

≥98%

物理參數

 

重量

260g

工作溫度

0℃~40℃

工作濕度

20%-85%

產品配置表

規格型號

起始波長(nm

截止波長(nm

光譜分辨率(nm@不同狹縫寬度

10um

25um

50um

100um

200um

HS2048-200-800

200

800

0.90

1.00

1.40

2.40

3.50

HS2048-350-940

350

940

0.80

1.00

1.50

2.40

3.60

HS2048-200-1100

200

1100

1.00

1.80

-

3.00

4.20

HS2048-350-1050

350

1050

0.90

1.00

1.60

2.80

4.00

定制說明

l                      光譜實際分辨率不高于標值的 120%;

l                      光譜范圍、分辨率等參數可根據客戶實際應用場景定制。

 

HS2048高分辨微型光譜儀 

HS2048高分辨微型光譜儀 

* 光譜實際分辨率不高于標值的 120%

* 光譜儀可根據客戶需求定制光譜范圍、分辨率等參數

 

HS2048高分辨微型光譜儀 

 

HS2048高分辨微型光譜儀 

HS2048高分辨微型光譜儀 

 

 

主要應用領域

光譜儀測激光器線寬

激光器線寬是描述激光器性能的重要參數,是指激光器輸出的激光頻率的寬度。線寬越窄,激光的單色性越好,頻率穩定性越高。我們可以使用光譜儀來測量激光器的線寬,適用于激光器生產廠家、科研場所等。

 HS2048高分辨微型光譜儀

激光波長測量圖譜

半導體刻蝕終點判斷

光譜儀在半導體刻蝕工藝中用于終點判斷,通過實時監測等離子體刻蝕過程中產生 的光譜信號變化,識別不同材料層的特征輻射峰。當光譜信號中的特征峰強度或位置發生預定變化時,系統判定刻蝕達到終點。這種方法具備高精度、實時性和非接觸性。廣泛應用于半導體制造中的多層結構刻蝕控制。

 HS2048高分辨微型光譜儀

再結晶鎢在氣體為 He、0.1 Pa、700W、250V 條件下鎢粒子的發射光譜

膜厚測量

基于光的干涉原理,當光照射到薄膜上時,部分光會在膜的上下界面發生反射和透射,形成干涉條紋。通過測量薄膜在不同波長下的反射或透射光譜,分析干涉條紋的頻率和幅度變化,可以計算出薄膜的厚度。

 HS2048高分辨微型光譜儀

HS2048高分辨微型光譜儀 

膜厚測量

 

火焰光譜檢測

在紫外 - 可見 - 近紅外內實現光強探測,可獲取火焰在特定平面的相對光強和光譜分布。

 HS2048高分辨微型光譜儀

HS2048高分辨微型光譜儀 

 

火焰光譜檢測

 

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